2024. április 24. Szerda, György.
 
Megvalósult az egyetlen atom vékonyságú szilícium tranzisztorForrás: richpoi.com
Utolsó módosítás: 2015-02-12 10:28:47
Az amerikai Texas Egyetem kutatói elkészítették az elsõ úgynevezett szilicénbõl, a létezõ legvékonyabb szilícium anyagból készült tranzisztorokat, melyek lényegesen gyorsabb, kisebb és hatékonyabb számítógép processzorokat eredményezhetnek.

Az egyetlen atom vastagságú szilicén kimagasló elektromos tulajdonságokkal rendelkezik, eddig azonban nagyon bonyolultnak bizonyult mind az elõállítása, mind a felhasználhatósága. Deji Akinwande, a texasiak számítástechnikai mérnök docense csapatával megoldotta a szilicén egyik legnagyobb problémáját. A kutatócsoport által a világon elsõként kifejlesztett tranzisztorok a jelenleg alkalmazott félvezetõ anyagok legvékonyabbikán alapulnak és kikövezhetik az utat a chipek egy új, gyorsabb és energiahatékonyabb generációja elõtt.

Néhány éve a mesterségesen elõállított szilicén csupán elméleti síkon létezett. A csodaanyagként kezelt szénalapú grafénból kiindulva nem volt nehéz eljutni egy szilícium atomokból álló, hasonló szerkezetig. A szilicén és a szilícium kapcsolatából adódóan Akinwande, aki grafén tranzisztorokon is dolgozik, nagy lehetõséget látott a projektben, a processzorgyártók ugyanis a szilíciumra vannak berendezkedve, egy rokon anyagból adódó kompatibilitás hatalmas elõnyt jelenthet. "Azon túl, hogy egy újabb szereplõt mutatunk be a kétdimenziós anyagok színterén, a szilicén a szilikonnal közös kémiai rokonságából adódóan jó lehetõséget jelent a félvezetõ iparban" - mondta Akinwande. "A nagy áttörést az alacsony hõmérsékleten történõ hatékony elõállítás és a szilicén eszközök megalkotása jelenti"

Mindeddig komplexitása és a levegõ által okozott instabilitása miatt a legnagyobb problémát a szilicén rendkívül bonyolult elõállítása és alkalmazhatósága jelentette. Ezek kiküszöbölése érdekében Akinwande az olasz Mikroelektronikai és Mikrorendszerek Intézetének szakértõjéhez, Alessandro Molle-hoz fordult segítségért, akivel kidolgozott egy olyan új elõállítási módszert, ami csökkentette a levegõnek való kitettséget. Elsõ lépésként a kutatók vákuumkamrában szilícium atomok forró páráját kondenzálták egy ezüst kristálytömbre. A módszerrel egy vékony ezüstrétegen elhelyezkedõ szilicén lapot alkottak, aminek egy nanométer vastag timföld réteget helyeztek el a tetején. A két védõrétegnek köszönhetõen a csapat biztonságosan le tudta fejteni a lapot az alapról és ezüst oldalával felfelé egy oxidált szilícium alaprétegre helyezték. Ezután finoman eltávolították az ezüst egy részét, két fémszigetet hagyva elektródákként, köztük egy szilicén csíkkal.

Akinwande folytatja a szilicén elõállításához alkalmazható új szerkezetek és módszerek vizsgálatát, a jelenlegieknél jóval alacsony energiaszükségletû, nagy sebességû digitális számítógép processzorok reményében.

Hozzászólások
Még nem érkezett hozzászólás ehhez a témához.
Hasonló hírek 
Kedvenc hírek
Ön még nem rakott semmit a kedvencek közé!